XMLS-EN/SiC是新型的复合无电解镍-磷、碳化硅工艺。该工艺具有极佳的稳定性。镀层含SiC量5.0-9.0%（wt%）而沉积速度可高达20微米/小时。 
    XMLS-EN/SiC所提供的金属陶瓷镀层经适当的热处理后，硬度及耐磨性能，均能达到或超过硬铬镀层。 
    XMLS-EN/SiC镀层的物理特性 
    SiC含量（wt%） 5.0-9.0 镀层密度(g/cm3) 7.4-7.6 
    熔点（℃） 880-960 硬度 500-720HV 
    热处理后（350℃1小时） 1000-1200HV
    XMLS-EN/SiC特点 
    1. 较快的沉积速度14-20微米/小时。 
    2. 较稳定的SiC含量，镀层具有优良的防腐和耐磨性能。 
    3. 极佳的稳定性和超过6个周期的使用寿命。
    4. 镀液容易操作。
    5. 较宽的镀液负载范围0.7-1.8。 
    设备要求
    镀 槽：建议使用PP镀槽，最好采用子母槽（或上下槽）镀槽在上，经加温和充分搅拌均匀的镀液由镀槽底部向上溢流回下槽，下槽为充分搅拌，加温，补充药液槽。 加热器：最好使用表面涂有聚四氟乙烯材料的加热器，经过钝化处理的不锈钢加热器也可以使用。加热时应避免镀液局部过热。 过 滤：如连续过滤可采用50-100微米的过滤机；过滤机必须能耐90℃高温。 搅 拌：最好使用机械方法进行搅拌，以SiC粉均匀分散在镀液中为准，也可采用干净无油的低压空气搅拌。过度的搅拌是有害的，另外镀件在镀槽中要做适当移动。
    镀液配置 
    XMLS-EN/SiC A: 60ml/L XMLS-EN/SiC B: 150ml/L XMLS-EN/SiC P: 7g/L(5-8g/L) 蒸馏水或去离子水: 790ml/L 首先用蒸馏水或去离子水清洗镀槽，加入约50%体积的蒸馏水或去离子水后，再加入所需数量的XMLS-EN/SiC A和XMLS-EN/SiC B，搅拌均匀后，用蒸馏水或去离子水补充到规定的体积，将镀液加温到约70℃，调整pH值4.60-4.65.调高pH值可采用50%的氨水或50%的碳酸钾；调低pH 值可采用10%的硫酸。在充分搅拌下加入所需的XMLS-EN/SiC P，在搅拌条件下，将镀液加温到84-86℃，再次检查pH4.60-4.65，镀液即可使用。（注意调整搅拌速度）。 
    操作条件 
    金属镍 5.0-6.2g/L(最佳5.8) pH 4.6-4.9 温 度 84-88℃（最佳86℃） 镀液负载 0.7-1.8dm2/L